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リフトオフプロセス対応のフォトレジスト
リフトオフプロセス対応のフォトレジスト
NAGASEグループのナガセケムテックスでは、リフトオフプロセスに対応した特徴的なフォトレジスト(感光性材料、Lift-off Photoresist)を開発しています。
単層のポジタイプのレジストはもちろん、細線化に対応した2層タイプのレジストも取り揃えています。2層タイプは従来品に比べ、低温ベークと容易なサイドエッチングのコントロールを実現。お客様の個別のニーズ、細かなご要望にあわせた材料開発もぜひご相談ください。
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